一种薄膜晶体管及图像显示装置的制作方法

Abstract

本发明公开了一种薄膜晶体管的制作方法，包括以下步骤：在衬底上形成栅电极；在栅电极的上方形成沟道层以及夹持在所述沟道层两侧且与栅电极绝缘的源区和漏区，所述沟道层的形成是利用已形成的栅电极作为掩模图形的自对准光刻方法实现的。本发明还公开了一种图像显示装置的制作方法。本发明由于采用栅电极作为掩模图形的方法对源区和漏区进行刻蚀，使得栅电极和源区及漏区形成自对准，即器件结构自然形成高度对称和各组成部分自然形成高精度对准，摆脱了制造工艺对昂贵的高精度光刻对准设备的依赖，从而降低了成本，提高了成品率。