Title半导体二次电子像中的掺杂衬度
Other TitlesSecondary electron dopant contrast in semiconductors
Authors陈文雄
徐军
Affiliation北京大学物理学院电镜室,北京,100871
Keywords掺杂衬度
功函数
电离能
Issue Date2002
Publisher电子显微学报
Citation电子显微学报.2002,21,(4),406-410.
Abstract本文详细评述和介绍了近几年来国际上关于扫描电镜二次电子像中的掺杂衬度方面的实验和理论研究成果,总结了实验中发现的各种现象,并用电离能的观点对所有这些现象作出了理论上的解释,并指出了这种技术的应用前景.
URIhttp://hdl.handle.net/20.500.11897/85050
ISSN1000-6281
DOI10.3969/j.issn.1000-6281.2002.04.012
Indexed中文核心期刊要目总览(PKU)
中国科学引文数据库(CSCD)
Appears in Collections:物理学院

Files in This Work
Adobe PDF

Web of Science®



Checked on Last Week

Scopus®



Checked on Current Time

百度学术™



Checked on Current Time

Google Scholar™





License: See PKU IR operational policies.